1.控制試驗時刻：在高溫環境下，石墨坩堝的氧化速度隨時刻的添加而加速。因而，應盡量縮短高溫下的試驗時刻。
    2.下降氧分壓：能夠通過在石墨坩堝內加入一定量的還原劑，如純碳或硅粉等，下降氧分壓，減緩氧化速度。
    3.添加維護氣氛：在真空環境下運用石墨坩堝時，能夠通過運用惰性氣體來構成維護氣氛，如氬氣、氮氣等，避免石墨坩堝與氧氣接觸然后氧化。

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